京东方Ａ获得发明专利授权：“蒸发源、蒸镀设备及蒸镀控制方法”

专利摘要：本发明提供了一种蒸发源、蒸镀设备及蒸镀控制方法，该蒸发源包括：坩埚，所述坩埚具有用于盛放蒸镀材料的容置腔，且所述容置腔包括多个蒸镀区；加热单元，用于加热所述坩埚内的蒸镀材料，设置于所述坩埚上；检测部件，用于检测各所述蒸镀区的蒸镀状态，设置在所述坩埚上，所述蒸镀状态包括蒸镀速率；用于对各蒸镀区的蒸镀温度进行调节的调温部件，设置在所述坩埚上；以及，用于根据所述检测部件所检测到的各所述蒸镀区的蒸镀状态，控制所述调温部件对各所述蒸镀区的蒸镀温度进行调节的控制单元，所述控制单元与所述检测部件和所述调温部件分别连接。本发明能够实时监控坩埚内蒸镀状态，实现膜厚均一性可控的目的。

今年以来京东方Ａ新获得专利授权3372个，较去年同期增加了48.15%。结合公司2023年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了52.67亿元，同比减1.77%。

数据来源：企查查

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