京东方Ａ新获得发明专利授权：“光线刻蚀装置和显示基板制备设备”

专利摘要：本发明提供一种光线刻蚀装置和显示基板制备设备。该光线刻蚀装置包括：腔体；腔体包括第一侧壁，第一侧壁上设置有透明窗；待刻蚀基板用于设置在腔体内；光线源，位于腔体外，且对应透明窗设置，光线源用于发出刻蚀光线；刻蚀光线能透过透明窗进入腔体内；接尘器，设置于腔体内，且位于待刻蚀基板和第一侧壁之间；接尘器包括接尘部和由接尘部围设形成的透光通道；透光通道对应待刻蚀区域和透明窗，能使由透明窗进入腔体的刻蚀光线照射至待刻蚀基板的待刻蚀区域；接尘部用于对待刻蚀基板的待刻蚀区域刻蚀时产生的粉尘进行收纳。该光线刻蚀装置能够对刻蚀待刻蚀区域形成的粉尘进行很好的收集和容纳，从而避免粉尘对腔体内以及待刻蚀基板造成污染。

今年以来京东方Ａ新获得专利授权2737个，较去年同期增加了34.56%。结合公司2023年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了52.67亿元，同比减1.77%。

数据来源：企查查

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